ΕΠΑΝΩ Ashtray πολυ Magnetron τόξων που ψεκάζει τη μηχανή κενού επιστρώματος

 
Τύπος δομών: Κάθετος τύπος ή οριζόντιος τύπος
 
Τύπος αιθουσών: ενιαία πόρτα ή διπλές πόρτες
 
 

1. Magnetron η αρχή επιμετάλλωσης είναι βασισμένη στη θεωρία της απαλλαγής πυράκτωσης καθόδων, χρησιμοποιεί
μαγνητικό πεδίο επιφάνειας καθόδων κοντά στην επιφάνεια κομματιού εργασίας. Κατόπιν βελτιώνει το ψεκασμένο άτομο
ποσοστό ιονισμού. Κρατά τη magnetron ομοιομορφία επιμετάλλωσης, μπορεί επίσης να βελτιώσει τη να λάμψει επιφάνειας επίδραση.
 
2. Η πηγή εξάτμισης πλάσματος τόξων είναι αξιόπιστη, μπορεί να λειτουργήσει κάτω από το ρεύμα 40A στη βελτιστοποίηση της καθόδου
και η δομή μαγνητικών πεδίων. Θα συμβεί ατομική διάχυση μεταξύ του επιστρώματος και του υλικού. Αυτό
επίσης έχει τα πλεονεκτήματα ότι lon η ακτίνα βοήθησε την απόθεση.
 
3. Το κενό αντλώντας σύστημα, το ηλεκτρικό σύστημα ελέγχου και το πλήρες σύστημα κενού επιστρώματος μπορούν να είναι
προσαρμοσμένος σύμφωνα με τις απαιτήσεις χρηστών.
 
 
4. Κρυογόνος ιονική δευτερεύουσα πηγή εξοπλισμών, κάποιο υπόστρωμα χωρίς θέρμανση του υλικού, αυτό μπορεί
 
άμεσα κάνετε την κρύα ταινία επένδυσης στη θερμοκρασία δωματίου, εκτός από την ενέργεια, παραγωγικότητα αύξησης.
 
 
5. Το μέγιστο της θερμοκρασίας για την αίθουσα επιστρώματος εργαλείων μπορεί 600 βαθμοί, εκτός από το εργαλείο
 
Coater οι εφαρμογές επιστρώματος απαιτούν τη συσκευή θέρμανσης, άλλες εφαρμογές δεν χρειάζονται τη συσκευή.
 
 
 

 
 
Magnetron αρχή εργασίας επιμετάλλωσης της μηχανής κενού επιστρώματος, ο αποκαλούμενος «παφλασμός», κάτω από
 
η δράση των ηλεκτρονίων σε ένα ηλεκτρικό πεδίο επιταχύνει στο υπόστρωμα στο στάδιο της σύγκρουσης με το αργό
 
άτομα, ηλεκτρόνια αργού μεγάλων ποσών ιονισμού έξω ιόντα και. Το ηλεκτρόνιο πετά προς το υπόστρωμα,
 
το ιόν αργού επιταχύνει το υλικό στόχων στο πλαίσιο της δράσης του ηλεκτρικού πεδίου, που ψεκάζει έξω έναν μεγάλο
 
ο αριθμός ατόμου στόχων, και το ουδέτερο άτομο στόχων (ή μόριο) κατατίθενται στο υπόστρωμα για να διαμορφώσουν
 
ταινία. Δευτεροβάθμιο ηλεκτρόνιο στην επιτάχυνση για να πετάξει στο υπόστρωμα από το μαγνητικό πεδίο στο στάδιο του lorentz
 
μαγνητική δύναμη, η επιρροή της περιορισμένης περιοχής κοντά στο πλάσμα επιφάνειας στόχων, η πυκνότητα πλάσματος
 
η περιοχή είναι πολύ υψηλή, το δευτεροβάθμιο ηλεκτρόνιο στο πλαίσιο της δράσης του μαγνητικού πεδίου γύρω από την επιφάνεια στόχων είναι
 
η κυκλική κίνηση, η πορεία κινήσεων ηλεκτρονίων είναι πολύ μακροχρόνια, συνεχώς στο στάδιο της μετακίνησης του αντίκτυπου
 
ιονικός βομβαρδισμός αργού μεγάλων ποσών ιονισμού έξω του στόχου, μετά από πολλές φορές της σύγκρουσης
 
η ενέργεια ηλεκτρονίων μειώνει βαθμιαία, χυτός από το ζυγό των γραμμών μαγνητικών πεδίων, μακρυά από το στόχο
 
υλικό, η τελική απόθεση στο υπόστρωμα.