ΕΠΑΝΩ στην κινητή ένδυση της Shell τηλεφωνικών μετάλλων - ανθεκτική ταινία κενή μηχανή επιμετάλλωσης

 
 

 
 

1.The η αίθουσα, οι βαλβίδες και η διοχέτευση με σωλήνες επιστρώματος αποτελούνται από αποτελεσματική διάμετρο αιθουσών ανοξείδωτου την κενή

 

από Φ500 χιλ. σε Φ2000 χιλ.

 

 

2. Το κενό σύστημα αποτελείται από τη μηχανική αντλία, την περιστροφική vane αντλία, rotz την αντλία και ένα κρύο καλά υψηλό

 

κενή αντλία διάχυσης πετρελαίου ή μοριακή αντλία.

 

 

3. Το σύστημα επιστρώματος υιοθετεί τον πολλαπλάσιο επίπεδο στόχο ή τον κυλινδρικό στόχο, με την πολλαπλάσιο συνεχή δύναμη ή το μέσο

 

παροχή ηλεκτρικού ρεύματος συχνότητας.

 

 

4. Το βοηθητικό αντλώντας σύστημα υιοθετεί μια χαμηλής θερμοκρασίας παγίδα υδρατμών.

 

 

5. Ο μετρητής ροής αερίου και ο έλεγχος ελέγχου ροής (επίδειξη) του αεροκίνητου συστήματος υιοθετούνται.

 

 

6. Το ηλεκτρικό σύστημα ελέγχου οργάνωση θα περιτρέξει την υπερφόρτωση, το σπάσιμο νερού και την υγιή συσκευή συναγερμών

 

σπασμένος αέρας.

 

 

7. Σύστημα ελέγχου (οθόνη αφής + PLC), λεπτομερείς επίδειξη παράμετροι σε πραγματικό - χρόνος, πλήρως αυτόματος έλεγχος

 

η ολόκληρη διαδικασία παραγωγής, και αυτόματη αποθήκευση των παραμέτρων διαδικασίας.

 

 

8. Ο εξοπλισμός είναι εξοπλισμένος με το προκατειλημμένο σύστημα υψηλής δύναμης και τη βοηθητική απόθεση πηγής ιονισμού

 

επίστρωμα.

 

 

 

 

Magnetron αρχή εργασίας επιμετάλλωσης της μηχανής κενού επιστρώματος, ο αποκαλούμενος «παφλασμός», κάτω από

 

η δράση των ηλεκτρονίων σε ένα ηλεκτρικό πεδίο επιταχύνει στο υπόστρωμα στο στάδιο της σύγκρουσης με το αργό

 

άτομα, ηλεκτρόνια αργού μεγάλων ποσών ιονισμού έξω ιόντα και. Το ηλεκτρόνιο πετά προς το υπόστρωμα,

 

το ιόν αργού επιταχύνει το υλικό στόχων στο πλαίσιο της δράσης του ηλεκτρικού πεδίου, που ψεκάζει έξω έναν μεγάλο

 

ο αριθμός ατόμου στόχων, και το ουδέτερο άτομο στόχων (ή μόριο) κατατίθενται στο υπόστρωμα για να διαμορφώσουν

 

ταινία. Δευτεροβάθμιο ηλεκτρόνιο στην επιτάχυνση για να πετάξει στο υπόστρωμα από το μαγνητικό πεδίο στο στάδιο του lorentz

 

μαγνητική δύναμη, η επιρροή της περιορισμένης περιοχής κοντά στο πλάσμα επιφάνειας στόχων, η πυκνότητα πλάσματος

 

η περιοχή είναι πολύ υψηλή, το δευτεροβάθμιο ηλεκτρόνιο στο πλαίσιο της δράσης του μαγνητικού πεδίου γύρω από την επιφάνεια στόχων είναι

 

η κυκλική κίνηση, η πορεία κινήσεων ηλεκτρονίων είναι πολύ μακροχρόνια, συνεχώς στο στάδιο της μετακίνησης του αντίκτυπου

 

ιονικός βομβαρδισμός αργού μεγάλων ποσών ιονισμού έξω του στόχου, μετά από πολλές φορές της σύγκρουσης

 

η ενέργεια ηλεκτρονίων μειώνει βαθμιαία, χυτός από το ζυγό των γραμμών μαγνητικών πεδίων, μακρυά από το στόχο

 

υλικό, η τελική απόθεση στο υπόστρωμα.

 

 

 

 

 

 
 
1. Αυτό κρυογόνος ιονική δευτερεύουσα πηγή εξοπλισμών, κάποιο υπόστρωμα χωρίς θέρμανση του υλικού, αυτό
 
μπορέστε άμεσα να κάνετε την κρύα ταινία επένδυσης στη θερμοκρασία δωματίου, εκτός από την ενέργεια, παραγωγικότητα αύξησης.

 
2. Το μέγιστο της θερμοκρασίας για την αίθουσα επιστρώματος εργαλείων μπορεί 600 βαθμοί, εκτός από το εργαλείο
 
Coater οι εφαρμογές επιστρώματος απαιτούν τη συσκευή θέρμανσης, άλλες εφαρμογές δεν χρειάζονται τη συσκευή.

 
3. Το υψηλό ποσοστό απόθεσης, υψηλή ταχύτητα επιστρώματος, αυτό μπορεί να χρησιμοποιηθεί ευρέως για να κάνει το διακοσμητικό επίστρωμα, λειτουργικό
 
επίστρωμα σε ποικίλα προϊόντα. Έτσι είναι ένας ιδανικός εξοπλισμός για να κάνει το αρίστης ποιότητας και καλύτερο επίστρωμα για τη μάζα
 
παραγωγή.

 
4. Magnetron η αρχή επιμετάλλωσης είναι βασισμένη στη θεωρία της απαλλαγής πυράκτωσης καθόδων, χρησιμοποιεί
 
μαγνητικό πεδίο επιφάνειας καθόδων κοντά στην επιφάνεια κομματιού εργασίας. Κατόπιν βελτιώνει το ψεκασμένο άτομο
 
ποσοστό ιονισμού. Κρατά τη magnetron ομοιομορφία επιμετάλλωσης, μπορεί επίσης να βελτιώσει τη να λάμψει επιφάνειας επίδραση.